2025-12-26
麦奇克（Microtrac）激光粒度仪SYNC在半导体行业中发挥着至关重要的角色，其应用贯穿于从半导体制造到显示技术、电子封装以及新兴电子材料研发的各个环节。
在半导体制造过程中，抛光浆料的粒度分布直接影响晶圆表面的平整度。麦奇克（Microtrac）激光粒度仪SYNC能够精确测量抛光浆料中磨料的粒径分布，确保其符合工艺的要求。通过监测浆料的D10、D50、D90等关键参数，可以有效控制抛光质量，减少表面缺陷。
化学机械抛光（CMP）是半导体制造中的关键工艺。麦奇克（Microtrac）激光粒度仪SYNC可监测CMP抛光浆料中颗粒的粒度变化，为工艺优化提供数据支持。例如，通过调整浆料中磨料的粒径分布，可以优化抛光速率和表面质量，提高产品良率。
麦奇克（Microtrac）的激光粒度仪SYNC采用静态激光衍射法测量颗粒的大小及分布。采用专利的三激光设计（2个405nm波长的固体激光器和1个780nm波长的固体激光器），得到非常宽的测试范围0.01-4000µm，覆盖了从纳米到毫米不同量级的颗粒测量。配备全自动湿法进样系统FLOWSYNC，可以实现全自动操测量和清洗，无需手动清洗。
本文采用麦奇克（Microtrac）的激光粒度仪SYNC来测量抛光液的粒径及其分布。
激光粒度仪SYNC测量SiO2粒度及其分布
激光粒度仪SYNC测量CeO2粒度及其分布
从上述数据看，麦奇克（Microtrac）的激光粒度仪SYNC除了测量常规的微米级别颗粒，但由于其配置了2个405nm的激光器，提高了对亚微米颗粒测量的准确性，能够完全覆盖纳米级别的颗粒粒径测量，而且数据的重复性也非常好，为半导体行业的客户提供了最好的颗粒表征仪器。
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